在二次精練裝置中使用的鎂鉻磚根據(jù)其生產(chǎn)工藝的不同分為五種，分別是直接結合鎂鉻磚、再結合鎂鉻磚、硅酸鹽結合鎂鉻磚、半再結合鎂鉻磚和預反應鎂鉻磚。其中以直接結合鎂鉻磚在使用中最為廣泛。直接結合鎂鉻磚與其他四種鎂鉻磚都有什么不同？

1、原料
直接結合鎂鉻磚采用石家莊高純鎂砂和鉻礦制成的鎂鉻砂為主要原料。再結合鎂鉻磚又叫電熔再結合鎂鉻磚，采用菱鎂礦(或輕燒鎂粉)和鉻礦制成的合成電熔鎂鉻熔塊為原料。
硅酸鹽結合鎂鉻磚采用燒結鎂砂和一般耐火級鉻礦為原料。半再結合鎂鉻磚以部分電熔合成鎂鉻砂為原料，摻加部分鉻礦和鎂砂或燒結合成鎂鉻料。預反應鎂鉻磚采用輕紗鎂粉和鉻鐵礦為原料，煅燒成預反應燒結料。
2、性能特點
直接結合鎂鉻磚高溫機械強度高、抗渣性好、高溫體積穩(wěn)定性好。再結合鎂鉻磚具有較高的高溫強度和體積穩(wěn)定性，耐侵蝕，抗沖刷，抗熱震性介于直接結合磚和電熔磚之間。硅酸鹽結合鎂鉻磚的高溫抗侵蝕性能較其他鎂鉻磚較差，強度較低。半再結合鎂鉻磚制品組織結構致密，氣孔率低，高溫強度高，抗侵蝕能力強，抗熱震性能好。預反應鎂鉻磚制品組織結構致密，成分均勻，氣孔率低，高溫強度大，抗渣性好，抗熱震性好。
3、應用
不同的鎂鉻磚根據(jù)其不同的性能特點，在使用上也有很大的差別。直接結合鎂鉻磚主要用于RH、DH真空脫氣裝置，VOD爐、AOD爐等爐外精練裝置。再結合鎂鉻磚使用與RH、DH真空脫氣室、AOD風嘴區(qū)、COD渣線部位。硅酸鹽結合鎂鉻磚在爐外精練裝置中主要用于非直接接觸熔體的內(nèi)襯部位。
半再結合鎂鉻磚用于RH和DH真空脫氣浸漬管、VOD爐、LF爐、AOD爐等爐外精料設備的渣線部位。
預反應鎂鉻磚用于VOD爐、LF爐等精練設備的渣線部位。